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半導體真空磁控濺射儀器

產品簡介

半導體真空磁控濺射儀器鄭州科探KT-Z1650PVD,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結構緊湊,全自動控制,設計符合人體工程學,所得結果一致,可重復性高。

產品型號:KT-Z1650PVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:3052
詳細介紹在線留言
品牌鄭科探產地類別國產
應用領域環(huán)保,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天

鄭州科探儀器設備是高質量定制物理 氣相沉積(PVD)系統(tǒng)的設計者和制造商,客戶服務和售后服務出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經(jīng)驗。其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下,高度積極地開發(fā)新設計以滿足客戶的特殊要求。

   鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心,并得到了很好的參考和反饋。

儀器描述:

半導體真空磁控濺射儀器,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結構緊湊,全自動控制,設計符合人體工程學,所得結果一致,可重復性高。


    產品特點:

    彩色觸摸屏:數(shù)據(jù)輸入簡單快速

    • 通過觸摸屏中直觀檢測數(shù)據(jù)和曲線;歷史頁面可顯示歷史涂層信息。

    • 可控鍍膜速率,可得到更精細的晶粒結構

    • 可手動或自動,根據(jù)時間或根據(jù)厚度進行濺射

• 樣品臺更換簡單:標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉;行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。

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半導體真空磁控濺射儀器技術參數(shù);

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口










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